01[1].电子材料概论
电子材料的品种数量和质量,成了衡量该国科学技术、
国民经济水平和军事国防力量的一个主要标志。
1.1.2 电子材料的分类
1.
按用途分:结构电子材料和功能电子材料。
1) 2)
结构电子材料是指能承受一定压力和重力,并能保持尺寸和大部 分力学性质(强度、硬度及韧性等)稳定的一类材料; 功能电子材料是指除强度性能外,还有特殊性能,或能实现光、 电、磁、热、力等不同形式的交互作用和转换的非结构材料; 无机电子材料可分为金属材料(以金属键结合)和非金属材料(以 离子键和共价键结合); 有机电子材料主要是指高分子材料(以共价键和分子键结合); 按材料的物理性质分:导电材料、超导材料、半导体材料、绝缘 材料、压电铁电材料、磁性材料、光电材料和敏感材料等。 按应用领域分:微电子材料、电器材料、电容器材料、磁性材料 光电子材料、压电材料、电声材料等;
1.2 无机电子材料
无机电子材料大部分是由原子或小分子组成的固态材料。
1.2.1 晶体的宏观特征
(1)有规则的外形(自范性);
(2)晶体的均匀性,来源于晶体中原子排布的周期性规则, 宏观观察中分辨不出微观的不连续性。 (3)解离性;
(4)稳定性,晶体有固定的熔点。
(5)物理性质的各向异性
1、空间点阵、晶胞和晶面的表示
§ 1.4.3 实际表面的特征
表面粗糙程度是用粗糙度系数R来量度的 R Ar / Ag
其中: Ar ——几何表面面积 Ag——包括内表面等在内的实际表面积
§ 1.4.3 实际表面的特征 2、表面的组织
经过切磨、挤压、抛光等加工后材料的表面,在相当宽 的范围内,晶粒的大小、结晶程度、应力畸变和显微组织 等特征,有明显的不均一性。
1.1.4 电子材料与元器件
1、电子材料对元器件和集成电路发展的促进作用 新型先进的电子材料的出现,就可能使电子元器件迅 猛发展,并带来社会的进步。无源元件电阻器的发展 也是如此。每当出现一种新的电阻材料,接着就出现 一种新型的电阻器。
2、功能电子材料和结构电子材料在电子元器件中的作用 电子元器件中的性能主要由其中的功能材料来决定的。 但是,有时结构材料对电子元器件的性能的影响也很 突出。
1.1.1 在国民经济中的地位
电子材料是指与电子工业有关的、在电子学与微电
子学中使用的材料,是制作电子元器件和集成电路的
物质基础。材料、能源和信息技术是当前国际公认的 新科技革命的三大支柱。电子材料处于材料科学与工 程的最前沿。电子材料的优劣直接影响电子产品的质 量,与电子工业的经济效益有密切关系。一个国家的
2、外来因素引起的调整
(1) 吸附 (2) 合金
§ 1.4.3 实际表面的特征
实际表面是指材料经过一般的加工(切割、研磨、抛光、 清洗)后,保持在常温、常压下的表面,当然有时也可能在 低真空或高温之下。
1、表面外形和表面粗糙度
表面的不平整程度(最高点与最 低点间的距离)大于10mm时, 称为形状误差;1~10mm时称为 波纹度;小于1mm则称为表面 粗糙度(surfaceroughness).
1、原子发射光谱
原子发射光谱分析法是根据处于激发态的待测元素原子回 到基态时发射的特征谱线对待测元素进行分析的方法。 热激发 基态元素E0
E
特征辐射
激发态Ei
§ 1-5 电子材料常用微观分析方法
§ 1.4.2 清洁表面的原子排布
不存在吸附物也不存在氧化层的固体表面,称为清洁面。 相对于理想表面而言,处于清洁表面的原子组分与位臵往往 发生变化,具体表现为偏析(或分凝)、驰豫、重构等。 因为清洁表面的上方没有原子存在,表面原子会受到下层 原子的拉力。如果表面原子没有足够的附加能量的话,将被
拉到下面去,这部分附加能量称为表面能,也称为表面张力。
§ 1-4 电子材料的表面和界面
物质和物质接触的界面(interface)可分为如下六种情形:
气体 液体(液体表面) 气体 固体(固体表面) 异质界面液体 液体(乳浊液 ) 物质的界面 液体 固体( 相界 ) 固体 固体( 相界 ) 同质界面 固体 固体(晶界 )
由于表面存在的偏析(耗尽)效应,材料表面处的成分 与配方上的会有所偏差。
§ 1.4.3 实际表面的特征 4、工业表面
材料的表面在工业环境下,会受到不同程度的污染,表 面上可能存在各种覆盖物,这种表面称工业表面。
§ 1-5 电子材料常用微观分析方法
电子材料化学成分分析方法:重量分析、容量分析和比色法 是材料化学成分分析的经典方法,目前仍有重要应用。
1、表面原子排列的调整
(2) 重构
表面结构重构:是指表面结构和体结构出现了本质的不 同。重构通常表现为表面超结构的出现,即两维晶胞的基 矢按整数倍扩大。 表面重构现象在硅半导体 中经常出现,这可能和硅 半导体的键合方向性和四 面体配位有关。
1、表面原子排列的调整
(3) 超结构 在一些单晶金属的表面区原子的重新排列时,它与内 部(衬底)原子的排列无直接关系,这种表面结构称超结 构。
电子材料的重点是阐明各类电子材料晶体结构、电磁特性
及影响因素、基本工艺,为研制电子材料奠定理论与实践的
基础.
前
言
电子材料是当前材料科学的一个重要方向,品种
多、用途广、涉及面宽。是制作电子元器件和集成电路
的基础,是获得高性能高可靠先进电子元器件和系统的 保证。同时还广泛应用于印制电路板和微线板、封装用
(3)一个经抛光和机械加工后的金属的表面区
金属需经过打磨获得平整 的表面后,才能进行抛光, 机械加工过程中还会形成 各种损伤区。
§ 1.4.3 实际表面的特征 3、表面的成分
由于吸附和不同相的化学势不同等因素,会形成表面区 的主成分、杂质同体内的有明显差别。研究中发现,表面 区的杂质浓度往往比体内大,称为偏析;相反,表面区杂 质浓度低于体内,称为耗尽。
§ 1.4.1 表面的定义和种类
3、 表面的范围
从原子排列的角度来看,表面区原子的排列大概在 几层原子厚度的范围内与体内有差别,金属约 1~3 层, 半导体为 4~6 层,绝缘体要厚一些,约十到几十层。 通常认为,距表面处5~100Å范围内,原子排列与体内 有所不同。 总之,针对不同研究对象,表面区的范围并不相 同。
晶 胞是晶体结构的基本重复单位。
它有哪些特征,怎样描 述这些特征呢?
晶胞的大小和形状 晶胞 晶胞中各原子的坐标位臵
用晶胞参数来表示 用分数坐标来表示
Z 晶胞参数: 向量a、b、c的长度及其间的夹角 c
分数坐标:
原子P的位置可用向量OP表示: OP ﹦xa+yb+zc .我们定义x、y、 z为原子P的分数坐标
For example!
o
a X
yb
zc
P
xa
b Y
Z
分数坐标分别为:
Cs+: Cl﹣:
X CsCl晶胞
Y
Cs
+
:1 11 222
Cl : 000
由于点在晶胞内, x、y、z≤1
晶面和晶面指标
晶面:由不同位置原子组成的平面。
例如:图中的A、C、D、E平面
晶面指数:
某晶面在三个晶轴上的截距分别是h′a、 k′b、l′c。(a,b,c为单位长度)其中h′k′l′ 是晶面在晶轴上的截数。
2.
按组成(化学作用)分:无机电子材料和有机电子材料
1) 2)
3.
按材料的物理性质和应用领域分:
1) 2)
4.
传统电子材料与先进电子材料
1.1.3 电子材料对环境的要求
电子材料在做成元器件和集成电路之后,还应具 备一致性和稳定性,能够承受各种恶劣的环境。主 要表现在以下几方面: 1. 温度 2. 压力 3. 湿度 4. 环境中的化学颗粒及尘埃 5. 霉菌和昆虫 6. 辐射 7. 机械因素
材料、元器件和整机、电信电缆和光纤、各种显示器及
显示板,以及各种控制和显示仪表等等。
第一章 电子材料概论
分类与特点
无机电子材料 有机电子材料
表面与界面 常用微观分析方法
应用与发展动态
1.1 电子材料的分类与特点
1.1.1 在国民经济中的地位 1.1.2 电子材料的分类 1.1.3 电子材料对环境的要求 1.1.4 电子材料与元器件
点 阵 点
点
点 阵
将原子(分子,离子)中的一些位置(如重 心等)抽象成几何学上的点 由点阵点在空间排布形成的图形 所有点阵点分布在一条直线上。 所有点阵点分布在一个平面上。 所有点阵点分布在三度空间。
阵
直线点阵 平面点阵 空间点阵
聚乙烯 分子
周期性直线点阵Fra bibliotek石墨平 面 点 阵 的 例 子
NaCl结构类型的晶胞
(1)晶粒尺寸的变化
在切磨、抛光等机械加工操作中会产生大量热能,往往 能使表面区局部熔化,然后又迅速结晶,这样就带来了从 表面到内部约1um左右范围内晶粒尺寸的不均匀性,特别是 在距表面0.3um范围内更为明显。
§ 1.4.3 实际表面的特征 (2)贝尔比层
材料经过抛 光 后 ,表 面 有一光 亮 而致密 的 、厚度约 5~100nm的表面层,称贝尔比层,这在金属合金材料中特别 明显。
电
子
材
料
物理科学与技术学院
王彩霞
课程性质和任务
本课程为本专业高年级专业课,它紧密地把基础理论与
生产实践溶于一体。学生学习本课程后,更深入掌握电介质
物理、磁性物理的基础知识,具备从事电子材料生产、研究、 应用和开发的基本能力;本课程又为后续专业课程基础,直 接同电子器件和电子材料测量密切结合。因此本课程为本专 业重要专业课程。
90°
六 方
a=b c = = 90° = 120°