ditional nitrogen pressure)
Vac Mechanical pressure
西安交通大学精密工程研究所
N2Vac Mechanical pressure
Institute of Precision Engineering, Xian Jiaotong Univer
微型机电系统课程系列之三
(additional nitrogen pressure)
Mask Chuck Vac
Mechanical pressure
▪ Vacuum contact
(evacuation of exposure gap)
MechanNic2 al pressure
▪ Soft vacuum (vacuum contact with ad
微型机电系统课程系列之三
1 Basic of Photolithography 2 Mask Fabrication 3 Mask Aligner 4 Photolithography Process 5 Results Judgement
Institute of Precision Engineerin
淀积
扩散
离子束加工
体硅加工
硅表面微加工 光刻
电子束加工
硅微细加工
激光加工
微细超声加工
能束加工
LIGA加工 准LIGA加工
微细电解加工
光刻电铸加工
微细电火花加工
精密加工
立体光刻
微型制造技术
Institute of Precision Engineerin
微型机电系统课程系列之三
1 Basic of Photolithography 2 Mask Fabrication 3 Mask Aligner 4 Photolithography Process 5 Results Judgement
Institute of Precision Engineerin
微型机电系统课程系列之三
Institute of Precision Engineerin
微型机电系统课程系列之三
Institute of Precision Engineerin
微型机电系统课程系列之四
1 Basic of Photolithography 2 Mask Fabrication 3 Mask Aligner 4 Photolithography Process 5 Results Judgement
Institute of Precision Engineerin
微型机电系统课程系列之三
Institute of Precision Engineerin
微型机电系统课程系列之三
Institute of Precision Engineerin
微型机电系统课程系列之三
Parallel lMiagshkt Photoresi st
微型机电系统课程系列之三
微图形转移技术 ——光刻
卢德江 djlu@
西安交通大学精密工程研究所 Institute of Precision Engineerin
微型机电系统课程系列之三
深层
自停止 离子
各向 腐蚀 刻蚀 电化学
异性
腐蚀
腐蚀
牺牲 层腐 蚀
等离子及 反应离子 刻蚀
0
and surface pre
0 500 1000 1500 2000 2500 paration
Speed (rpm)
西安交通大学精密工程研究所 Institute of Precision Engineering, Xian Jiaotong
微型机电系统课程系列之三
Very Thick Layers of AZ4562 in One Step: Acceleration 1 000 rpm/s
Institute of Precision Engineerin
微型机电系统课程系列之三
Institute of Precision Engineerin
微型机电系统课程系列之三
Institute of Precision Engineerin
微型机电系统课程系列之三
Institute of Precision Engineerin
Institute of Precision Engineerin
微型机电系统课程系列之三
光源 光阑 快门 掩模 光刻胶层
Institute of Precision Engineerin
微型机电系统课程系列之三
Institute of Precision Engineerin
微型机电系统课程系列之三
微型机电系统课程系列之三
烘干
基底清洗
匀胶
前烘
中烘
曝光
显影
漂洗
后烘
Institute of Precision Engineerin
微型机电系统课程系列之三
Institute of Precision Engineerin
微型机电系统ห้องสมุดไป่ตู้程系列之三
西安交通大学精密工程研究所 Institute of Precision Engineering, Xian Jiaotong Univer
Institute of Precision Engineerin
微型机电系统课程系列之三
曝光
UV
显影
后续加工
Institute of Precision Engineerin
微型机电系统课程系列之三
1 Basic of Photolithography 2 Mask Fabrication 3 Mask Aligner 4 Photolithography Process 5 Results Judgement
微型机电系统课程系列之三
Medium Thicknesses of AZ4562: 30 s Spin Time
Resist Thickness (µm)
60
50
40
Results for pol
30
ished silicon,
20
thickness depen
ds on ambient h
10
umidity
Parallel lMiagshkt Photoresi st
Institute of Precision Engineerin
微型机电系统课程系列之三
Contact Exposure Modes
▪ Soft contact
(adjustable mechanical pressure)
▪ Hard contact