第七章 晶体生长动力学 生长驱动力与生长速率的关系(动力学规律或界面动力学规律),先解决生长机制问题。 §1 邻位面生长——台阶动力学 邻位面生长——奇异面上的台阶运动问题 1. 界面分子的势能
1→2 : 2Φ1+8Φ2; 1→3 : 4Φ1+12Φ2; 1→4 : 6Φ1+12Φ2 分子最稳定位置(相变潜热) 单分子相变潜热: lsf=Ws+Wk
① 流体分子 ⑴ 吸附分子 ⑵ 台阶分子⑶ 扭折 ⑷
邻位面上不同位置的吸附分子[3] 界面上不同位置的势能曲线 体扩散 面扩散
线扩散 ② 流体分子 ⑴ 吸附分子 ⑵ 扭折 ⑷ ③ 流体分子 ⑴ 扭折 ⑷ 2.面扩散 Ws=2Φ1+8Φ2 吸附分子→流体需克服的势垒
sfsl20122 面扩散激活能
υ∥ 吸附分子在界面振动频率 吸附分子在晶面发生漂移的机率为:)/exp(kTs,面扩散系数为:Ds
Ds=[υ∥)/exp(kTs]
吸附分子平均寿命:τs, s1脱附频率 )/exp(/1kTWss
)/exp(1kTWss
Xs: 吸附分子在界面停留的平均寿命τs内,由于无规则漂移而在给定方向的迁移(分子无规则漂移的方均根偏差)
sssDX2 (爱因斯坦公式)
kTWXsss2/]exp[21 由于对一般的晶面:sfsslW45.0 υ∥=υ⊥
体扩散 面扩散
体扩散 ]/22.0exp[21kTlXsfs
Xs 决定了晶体生长的途径。 3. 台阶动力学——面扩散控制 台阶的运动受面扩散控制
界面某格点出现吸附分子的机率:00NNss 界面N0,格点Ns有吸附分子: )/exp(0kTWks
(对单原子或简单原子,可忽略取向效应) 若:Xs >> X0 则到达界面便可到达台阶,扭折
平衡时,脱附分子(单独时间从界面脱附)数为:ss10 平衡时,吸附分子数为:ss10 0/pp 饱和比,在此情况下,吸附分子为:
ss
1
0
Xs >> X0 则吸附分子均能到达台阶 设台阶长度为a,则单位时间到达台阶的分子数为:
aXsss120
考虑脱附分子数:aXsss120 故单位时间达到台阶的净分子数为: aXsss1)1(20
台阶运动速率:
)/exp(2/2)1(/200kTlXXaaXVsfsssssss
gAV 线性规律
汽相生长:)/exp(2kTlkTXAsfs 熔体生长:kTDA3 D:扩散系数 4. 面扩散方程及其解
0/ppV 饱和比;
1VV
饱和度
0/sssnn
1ss
sn:吸附分子在界面上的实际面密度(单位面积吸附分子数) 0sn:吸附分子在界面上的平衡面密度
在Xs >> X0时,流向台阶的吸附分子扩散流sq sossssnDnDq
Ds: 面扩散系数(吸附分子) sV
sssssVVnnq//)(00
较短时间内,台阶两侧分子的分布看作稳态分布: Vsqq
ns0与位置无关系 Ds各向同性 sssDX2 22sX 面扩散方程式
(1) 单根直台阶(一维情况)
222dydXs,)()(yysV(二阶常系数)
)exp()exp()(ssXybXyay 单根直台阶: y=0, 0s , V y=±∞, Vs, 0 当 y>0时,有 a=0, Vb 当 y<0时,有 Va, 0b 单根直台阶的解: )/exp()(sVXyy
y>0 取负, y<0 取正)/exp(1[)(sVsXyy
00//ssVnnpp 代入:
)/exp(1)[()(0ssosssXynnnyn
(吸附分子面密度分布)
sssVysssXDnnDq/2)0(000
(单位时间到达单位长度的台阶上的吸附分子流量) 单位面积格点为n0,则:
sssVsXDnnnqV0002/)0(
ssnn000
利用sssDX2
可得:gAkTlXVsfsV)/exp(2 (2) 一组等间距的平等台阶 边值条件: y=±y0/2, 0s , V 代入:
sV VssXybXya)2exp()2
exp(00
VssXybXya)2exp()2
exp(00
求出a、b待定常数: )]2exp()2[exp(00ssVXyXyba
)2/()/()2/exp()2/exp()exp()exp()(000ssVssssVXyCoshXyCoshXyXyXyXyy
令:20yy,代入:sossssnDnDq, 得:ssssVyysossXXyDnnDyq/)]2/tan(2[)2/(002/00
)2/tanh()2/tanh()/exp(2/)2/(0000sssfsVsXyVXykTlXnyqU
和单根直线台阶比,差一个)2/tanh(0sXy因子 sXy20 1)2/tanh(0sXy
, VU
sXy20 1)2/tanh(0sXy
, VU (3) 单圈圆台阶、同心等距多圈圆台阶的运动速率 二维吉布斯——汤姆逊关系式
crppkT/0)/ln(0, cVrkT/0
γ:台阶棱边能; 0:吸附分子的面积; rc: 吸附分子的临界半径(二维) 在σV下, rr>rc, 台阶圈将离心运动而加大. 估计任意形状分子层中的一个分子所具有的平均能量: 正方形,内切圆半径为r0, 设吸附分子来自扭折,WK
方形层形成能为: 020804rWrK 则平均能量为: 0002)(rWrWKK 对任意形状: 00)(rWrWKK, η:形状因子 如果取η=1, 则: 0002)(rWrWKK
可得: 00)(rrkTWrWcVKK 在低σV下,圆形台阶运动速率不大,吸附分子分布看成稳态分布. )()()(202222rXrdrrdrdrrdr
虚变量零阶贝塞尔微分方程 Ψ(r)=σv-σs 普遍解为: ψ(r)=AI0(r/Xs)+BK0(r/Xs) I0(r/Xs)虚宗量零阶第一类 K0(r/Xs)虚宗量零阶第二类 根据该二函数的性质可确定不同区间的A、B
)/()/()()(0000ssXrIXrIrr ,当r )/()/()()(0000ssXrKXrKrr ,当r>r0 Ψ(r0)为半径r0时,圆台阶处Ψ函数值 于是可得:
1]/exp[]/)(exp[1n)()(00s00kTWkTrWrnrkkss =exp(σv(rc)/r0)-1≈σvrc/r0 ∴Ψ(r0)= σv-σs(r0) Ψ(r0)=σv(1-rc/r0)
0][)(00rrsssdrddrdnDrq
利用贝塞尔函数性质可得:
贝塞尔函数 )1(2)(/)(2)(0002000rrXnrqnXrnDrqcsssvsssssoss
)1(12/)()(000000rrnnXnrqrVcsssvs
)1()/exp(20rrkTIvXcsfsv )1()(00rrVrVc
∵V∞=2σvXsυ⊥exp(-Isf/kT) V(r0)是r0的函数,r0↑,V(r0)↑ r0→∞,V(r0)→V∞ r0→rc, V(r0)→0 r0同心等距多圈圆台阶组:间距为y0 U(r0)=V(r0)·tanh(y0/2Xs)(1-rc/r0) =V(r0)tanh(y0/2Xs) y0>>2Xs r0→∞ U(r0) →V∞ 5.台阶动力学——体扩散控制 XS甚小,台阶运动受流体分子体扩散控制(面扩散忽略不计)设:X-y平面与邻位面一致。
可得圆台阶的推进速